Category:Chemical vapour deposition

Deposición química de vapor (es); kémiai gőzfázisú leválasztás (hu); deposició química de vapor (ca); Chemische Gasphasenabscheidung (de); انباشت به روش تبخیر شیمیایی (fa); CVD (bg); CVD (da); Depunere chimică în fază de vapori (ro); 化学気相成長 (ja); Хімічне осадження з парової фази (uk); 化學氣相沉積 (zh-hant); 化学气相沉积 (wuu); 화학기상증착 (ko); Chemická depozice z plynné fáze (cs); வேதி ஆவிப் படிவு (ta); Deposizione chimica da vapore (it); Dépôt chimique en phase vapeur (fr); Keemiline sadestamine aurufaasist (et); Deposição química em fase vapor (pt); Nanašanje tankih plasti (sl); Pengendapan uap kimia (id); Химийн уураар тунадасжуулах (mn); Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (pl); Kimyasal buhar biriktirme (tr); Chemical vapor deposition (nl); Kemiallinen kaasufaasipinnoitus (fi); CVD-процесс (ru); 化学气相沉积 (zh); 化學氣相沉積 (zh-hk); Chemical vapor deposition (en); ترسيب كيميائي للبخار (ar); 化学气相沉积 (zh-hans); CVD (he) chemical process used in the semiconductor industry to produce thin films (en); Verfahren zum Beschichten von Feststoffen mit Feststoffen (de); pinnoitustekniikka (fi) Deposicion quimica de vapor, DQV, Deposicion química de vapor, Deposición quimica de vapor (es); 化学的気相成長, 化学気相蒸着法, 化学気相成長法, CVD法, 化学気相蒸着, CVD装置, 化学蒸着 (ja); Chemical Vapor Deposition, Depot chimique en phase vapeur (fr); Chemical Vapor Deposition, CVD (id); CVD (et); 化学气相沉积法 (zh); الترسيب البخاري الكيميائي, توضع كيميائي للبخار, ترسب كيميائي للبخار, ترسيب كيميائي للغازات, CVD, ترسب البخار الكيميائي (ar); CVD-proces (nl); Химическое парофазное осаждение, Химическое осаждение паров (ru); Chemical Vapor Deposition, Deposizione di vapore chimico, Deposizione chimica da fase vapore (it); Chemical Vapor Deposition, Chemical vapour deposition, CVD-Beschichtung (de); CVD (fi); Deposição química por vapor, Aglomerados nanoestruturados em semicondutores, CVD (pt); رسوب شیمیایی بخار (fa); Chemical vapor deposition, CVD (cs); DLC, CVD (sl)