Category:Doping (semiconductor)

Dopaje (es); dópolás (hu); Допант (ru); Dotierung (de); Dópáil (ga); آلایش (fa); 掺杂 (zh); dotering (da); 摻雜 (zh-hk); dopning (sv); אילוח (he); 摻雜 (zh-hant); 掺杂 (半导体) (wuu); Douppaus (fi); Doping (en-ca); dotování (cs); Drogaggio (it); ডোপায়ন (bn); dopage (fr); Dopaj (ht); dopagem eletrônica (pt); Легування (uk); Dotering (af); Doping (en-gb); Dopant (sl); 도핑 (ko); Dopagem eletrônica (pt-br); doteren (nl); Doping (id); Domieszkowanie (pl); doping (nb); Dodavanje primjesa (sh); ドーパント (ja); dopatge (ca); ಡೋಪಿಂಗ್ (kn); ഡോപ്പിംഗ് (ml); doping (en); إشابة (ar); 掺杂 (zh-hans); మాదీకరణము (te) action d'ajouter des impuretés en petites quantités à une substance pure afin de modifier ses propriétés de conductivité (fr); intentional introduction of impurities into an intrinsic semiconductor for the purpose of modulating its electrical properties (en); přidávání malého množství příměsí pro vylepšení vlastností materiálu (např. polovodičů) (cs); prosess ved produksjon av halvledere (nb); Einbringungung von Fremdatomen in Halbleiter (de) Dopaggio (it); dopämne, p-dopning, n-dopning, n-dopnig, störämne (sv); זיהום, זיהום מוליך למחצה, סימום (he); Ionenimplantatie, doperen, dopering, dotering (nl); Dotieren, Dotant, Dotierter Halbleiter, P-dotiert, N-dotiert (de); dopagem eletronica (pt); dotering (nb); التطعيم, المطعمة بشوائب, التشويب (ar); dopování (cs); الایش, دوپینگ (fa)