File:Cudeposition.gif

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Cudeposition.gif(320 × 380 píxeles; tamaño de archivo: 669 kB; tipo MIME: image/gif, bucleado, 187 frames, 19s)

Leyendas

Leyendas

Simulación por ordenador de dinámica molecular de la deposición de un solo átomo de cobre con una energía cinética de 1 eV sobre una superficie de cobre.

Resumen

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Descripción

Molecular dynamics computer simulation of the deposition of a single copper atom with

a kinetic energy of 1 eV on a copper surface. Technical details: cross section of two atom layers in the middle of a larger (10x10x10 unit cells) 3D simulation cell. Simulation made with Sabochick-Lam embedded-atom method potential, Berendsen temperature control used only at the outer boundaries to scale temperature down to 0 K. Initial temperature 0 K (cell prerelaxed to allow for surface relaxation inwards). This kind of processes occur in reality during physical vapour deposition.
Fecha
Fuente Trabajo propio
Autor Knordlun

Licencia

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actual12:39 30 jul 2007Miniatura de la versión del 12:39 30 jul 2007320 × 380 (669 kB)Knordlun (discusión | contribs.){{Information |Description=Molecular dynamics computer simulation of the deposition of a single copper atom on a copper surface. Technical details: cross section of two atom layers in the middle of a larger 3D simulation cell. Simulation made with Sabochi

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