File:Cudeposition.gif

Allikas: Wikimedia Commons
Mine navigeerimisribale Mine otsikasti

Cudeposition.gif(320 × 380 pikslit, faili suurus: 669 KB, MIME tüüp: image/gif, korduv, 187 kaadrit, 19 s)

Pealdised

Pealdised

Lisa üherealine seletus sellest, mida fail esitab

Lühikirjeldus[muuda]

Kirjeldus

Molecular dynamics computer simulation of the deposition of a single copper atom with

a kinetic energy of 1 eV on a copper surface. Technical details: cross section of two atom layers in the middle of a larger (10x10x10 unit cells) 3D simulation cell. Simulation made with Sabochick-Lam embedded-atom method potential, Berendsen temperature control used only at the outer boundaries to scale temperature down to 0 K. Initial temperature 0 K (cell prerelaxed to allow for surface relaxation inwards). This kind of processes occur in reality during physical vapour deposition.
Kuupäev
Allikas Üleslaadija oma töö
Autor Knordlun

Litsents[muuda]

Public domain Autor I, Knordlun on andnud selle teose avalikku omandisse. See kehtib üleilmselt.
Kui see pole mõnes riigis õiguslikult võimalik:
I, Knordlun annab kõigile õiguse seda teost kasutada ükskõik mille jaoks, ilma ühegi tingimuseta, kui seadus neid just ei sea.

Faili ajalugu

Klõpsa kuupäeva ja kellaaega, et näha sel ajahetkel kasutusel olnud failiversiooni.

Kuupäev/kellaaegPisipiltMõõtmedKasutajaKommentaar
viimane30. juuli 2007, kell 12:39Pisipilt versioonist seisuga 30. juuli 2007, kell 12:39320 × 380 (669 KB)Knordlun (arutelu | kaastöö){{Information |Description=Molecular dynamics computer simulation of the deposition of a single copper atom on a copper surface. Technical details: cross section of two atom layers in the middle of a larger 3D simulation cell. Simulation made with Sabochi

Seda faili ei kasuta ükski lehekülg.

Globaalne failikasutus

Järgmised muud vikid kasutavad seda faili: