File:High-k.svg
出典:ウィキメディア・コモンズ (Wikimedia Commons)
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この SVG ファイルのこの PNG プレビューのサイズ: 401 × 235 ピクセル. その他の解像度: 320 × 188 ピクセル | 640 × 375 ピクセル | 1,024 × 600 ピクセル | 1,280 × 750 ピクセル | 2,560 × 1,500 ピクセル。
元のファイル (SVG ファイル、401 × 235 ピクセル、ファイルサイズ: 8キロバイト)
ファイル情報
構造化データ
キャプション
解説High-k.svg | Comparison of high-k dielectric structure with conventional silicon dioxide gate dielectric. Schematic is my graphical representation of an idea in the presentation by G. E. Moore, Intel Inc. | ||||||||
日付 | 2006-01-05, 2008-01-14 | ||||||||
原典 | File:High-k.png | ||||||||
作者 | en:User:Anoopm, traced by User:Stannered | ||||||||
許可 (ファイルの再利用) |
この作品の著作権者であるAnoopm (英語版ウィキペディアの利用者)は、この作品を以下のライセンスで提供しています。
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その他のバージョン |
このファイルの派生的著作物: Common SiO2 vs high-k gate stack (DE).svg File:High-k.png |
ファイルの履歴
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日付と時刻 | サムネイル | 寸法 | 利用者 | コメント | |
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現在の版 | 2008年1月14日 (月) 18:14 | 401 × 235 (8キロバイト) | Stannered (トーク | 投稿記録) | {{Information |Description=Comparison of high-k dielectric structure with conventional silicon dioxide gate dielectric. Schematic is my graphical representation of an idea in the presentation by G. E. Moore, Intel Inc. |Source=en:Image:High-k.png |Da |
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