File:Micro and Nanotechnology Lab.jpg
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Micro_and_Nanotechnology_Lab.jpg (400 × 267 像素,檔案大小:140 KB,MIME 類型:image/jpeg)
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[編輯]描述Micro and Nanotechnology Lab.jpg |
English: This is the modern Micro and Nanotechnology laboratory. |
日期 | |
來源 | Nanostructured Semiconductor Materials and Devices Group |
作者 | Xiuling Li |
授權條款
[編輯]![]() |
公共版權:本藝術作品是自由的,您可以依據自由藝術作品許可協議的條款傳播和/或修改本藝術作品。您可以在Copyleft Attitude網站或其他網站找到該許可協議的樣本。 http://artlibre.org/licence/lal/enFALFree Art Licensefalsetrue |
檔案歷史
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日期/時間 | 縮圖 | 尺寸 | 使用者 | 備註 | |
---|---|---|---|---|---|
目前 | 2009年11月25日 (三) 21:08 | ![]() | 400 × 267(140 KB) | Sumit Dutta(留言 | 貢獻) | {{Information |Description={{en|1=This is the modern Micro and Nanotechnology laboratory.}} |Source=Nanostructured Semiconductor Materials and Devices Group |Author=Xiuling Li |Date=2008-09-01 |Permission= |other_versions= }} [[Category:University of Ill |
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詮釋資料
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相機製造商 | Canon |
---|---|
相機型號 | Canon EOS DIGITAL REBEL XT |
曝光時間 | 1/400 秒 (0.0025) |
光圈值 | f/13 |
ISO 速率 | 400 |
資料產生的日期時間 | 2008年7月17日 (四) 10:44 |
焦距 | 18毫米 |
方位 | 標準 |
水平解析度 | 300 dpi |
垂直解析度 | 300 dpi |
使用軟體 | Adobe Photoshop CS3 Windows |
檔案修改日期時間 | 2008年7月31日 (四) 15:33 |
亮度與彩度位置 | 同時取樣 |
曝光模式 | 標準模式 |
Exif 版本 | 2.21 |
數位化的日期時間 | 2008年7月17日 (四) 10:44 |
APEX 快門速度 | 8.6438598632812 |
APEX 光圈 | 7.40087890625 |
APEX 曝光補償 | 0 |
測光模式 | 模式 |
閃光燈 | 閃光燈未開啟、強制閃光燈關閉 |
色彩空間 | sRGB |
X 軸焦平面解析度 | 3,954.233409611 |
Y 軸焦平面解析度 | 3,958.7628865979 |
焦平面解析度單位 | 英寸 |
自訂影像處理 | 一般程序 |
曝光模式 | 自動曝光 |
白平衡 | 自動白平衡 |
場景拍攝類型 | 標準 |