File:Microchip for Carbon Nanotube Field Effect Transistors fabrication.jpg
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文件信息
结构化数据
说明
摘要[编辑]
描述Microchip for Carbon Nanotube Field Effect Transistors fabrication.jpg |
English: Scanning Electron Microscopy image of a die with Carbon Nanotubes based Field Effect Transistors to be fabricated. Image obtained during one of the fabrication steps, after hydrofluoric (HF) acid wet etching and SF6 based Inductively Coupled Plasma dry etching steps. Glowing structures in the middle are charged photoresist residues. In this chip design each square test pad represents transistor's source or drain electrodes, across which single-walled Carbon Nanotube will be suspended during the subsequent fabrication stages. Scale: the width of the outermost square test pads is 150 micrometers. SEM image and fabrication by Aidar Kemelbay (NLA, Nazarbayev University), with the help of Dr. Emine Cagin (NTB Buchs, Switzerland) performed at FIRST - Center for Micro- and Nanoscience, ETH Zurich. Photolithography mask design - Dr. Kiran Chikkadi (ETH Zurich, MNS group). |
日期 | |
来源 | 自己的作品 |
作者 | Aidar Kemelbay |
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This image was uploaded as part of European Science Photo Competition 2015. |
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日期/时间 | 缩略图 | 大小 | 用户 | 备注 | |
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当前 | 2016年1月8日 (五) 18:34 | 1,009 × 701(481 KB) | Kemelbaydar(留言 | 贡献) | User created page with UploadWizard |
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元数据
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宽度 | 1,024 px |
---|---|
高度 | 768 px |
压缩方案 | 未压缩 |
像素构成 | 主色调 |
方位 | 标准 |
像素数 | 1 |
水平分辨率 | 72 dpi |
垂直分辨率 | 72 dpi |
使用软件 | Adobe Photoshop CS6 (Macintosh) |
文件修改日期时间 | 2016年1月9日 (六) 00:18 |
色彩空间 | 无标定 |
数字化日期时间 | 2016年1月8日 (五) 17:44 |
原始数据最后修改日期 | 2016年1月9日 (六) 06:18 |
原始文件唯一ID | xmp.did:F87F117407206811871FA5ACE803A7A3 |