File:Semiconductor fabrication with and without CMP DE.svg
Salta a la navegació
Salta a la cerca
Mida d'aquesta previsualització PNG del fitxer SVG: 800 × 444 píxels. Altres resolucions: 320 × 178 píxels | 640 × 355 píxels | 1.024 × 568 píxels | 1.280 × 710 píxels | 2.560 × 1.420 píxels.
Fitxer original (fitxer SVG, nominalment 1.024 × 568 píxels, mida del fitxer: 32 Ko)
Llegendes
Llegendes
Afegeix una explicació d'una línia del que representa aquest fitxer
left: layer deposition without CMP in between. right: CMP after each layer deposition, layers are flater
Resum
[modifica]
| Descripció |
English: Comparison between semiconductor circuits manufactured with and without chemical-mechanical polishing (cross section)
Deutsch: Vergleich zwischen Halbleiterschaltkreisen hergestellt mit und ohne chemisch-mechanisches Polieren (Querschnitt) |
| Data | 08.07.2008 |
| Font | Treball propi |
| Autor | Cepheiden |
| Altres versions |
Derivative works of this file: Semiconductor fabrication with and without CMP RU.svg de:Bild:schichten_vor_nach_cmp.jpg |
Llicència
[modifica]
Jo, el titular dels drets d'autor d'aquest treball, el public sota la següent llicència:
Aquest fitxer està subjecte a la llicència de Creative Commons Reconeixement 3.0 No adaptada.
- Sou lliure de:
- compartir – copiar, distribuir i comunicar públicament l'obra
- adaptar – fer-ne obres derivades
- Amb les condicions següents:
- reconeixement – Heu de donar la informació adequada sobre l'autor, proporcionar un enllaç a la llicència i indicar si s'han realitzat canvis. Podeu fer-ho amb qualsevol mitjà raonable, però de cap manera no suggereixi que l'autor us dóna suport o aprova l'ús que en feu.
Historial del fitxer
Cliqueu una data/hora per veure el fitxer tal com era aleshores.
| Data/hora | Miniatura | Dimensions | Usuari/a | Comentari | |
|---|---|---|---|---|---|
| actual | 15:58, 24 nov 2008 | | 1.024 × 568 (32 Ko) | Cepheiden (discussió | contribucions) | Add legend |
| 08:36, 8 jul 2008 |  | 1.850 × 1.020 (26 Ko) | Cepheiden (discussió | contribucions) | {{Information |Description={{en|1=Comparison between semiconductor circuits manufactured with and without chemical-mechanical polishing (cross section)}} {{de|1=Vergleich zwischen Halbleiterschaltkreisen hergestellt mit und ohne chemisch-mechanisches Poli |
No podeu sobreescriure aquest fitxer.
Ús del fitxer
No hi ha pàgines que utilitzin aquest fitxer.
Ús global del fitxer
Utilització d'aquest fitxer en altres wikis:
- Utilització a ca.wikipedia.org
- Utilització a de.wikipedia.org
