File:Silicon dislocation orientation 111 mag 500x 2.png
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Silicon_dislocation_orientation_111_mag_500x_2.png (768 × 576像素,文件大小:574 KB,MIME类型:image/png)
Silicon_dislocation_orientation_111_mag_500x_2.png (768 × 576像素,文件大小:574 KB,MIME类型:image/png)
描述Silicon dislocation orientation 111 mag 500x 2.png |
Title: Dislocation in Si crystal, orientation 111
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日期 | 2005年9月13日 (原始上传日期) |
来源 | 无法识别来源。根据版权声明推断为其自己的作品。 |
作者 | 无法识别作者。根据版权声明推断作者为Twisp。 |
Public domainPublic domainfalsefalse |
我,本作品著作权人,释出本作品至公有领域。这适用于全世界。 在一些国家这可能不合法;如果是这样的话,那么: 我无条件地授予任何人以任何目的使用本作品的权利,除非这些条件是法律规定所必需的。 |
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日期/时间 | 缩略图 | 大小 | 用户 | 备注 | |
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当前 | 2005年9月13日 (二) 00:17 | 768 × 576(574 KB) | Twisp(留言 | 贡献) | * Title: Dislocation in Si crystal, orientation 111 * Desc: Image of dislocation in Si crystal made using interference microscope with 500x magnification. Crystal orientation can be determined by the triangular (pyramidal) shape of the dislocation. * Auth |
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