File:TyTunnelling.png
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English: Schematic representation of an electron (e, right) tunnelling through a barrier of "height" (vertical dimension is energy) e*V_b and thickness (horizontal dimension is spatial) d_b. e is the elementary charge, -1.6E-19 Coulomb, V is the bias voltage leading to a current flowing between the right and the left "electrode" (side of the barrier). |
日期 | Göteborg 1999 |
來源 | Created by Torsten Henning and published in Charging effects in niobium nanostructures, PhD thesis, Mikroelektronik och Nanovetenskap, Chalmers Tekniska Högskola AB och Göteborgs Universitet, Göteborg 1999. Full text available online [1] as www.arxiv.org e-print cond-mat/9901308. |
作者 | Torsten Henning |
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日期/時間 | 縮圖 | 尺寸 | 用戶 | 備註 | |
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目前 | 2005年10月12日 (三) 15:34 | ![]() | 915 × 650(23 KB) | DrTorstenHenning(對話 | 貢獻) | {{English}} Schematic representation of an electron (e, right) tunnelling through a barrier of "height" (vertical dimension is energy) e*V_b and thickness (horizontal dimension is spatial) d_b. e is the elementary charge, -1.6E-19 Coulomb, V is the b |
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