File:JM3 18 2 023502 f001.png
از Wikimedia Commons
پرش به ناوبری
پرش به جستجو
اندازهٔ این پیشنمایش: ۸۰۰ × ۴۷۶ پیکسل. کیفیتهای دیگر: ۳۲۰ × ۱۹۱ پیکسل | ۶۴۰ × ۳۸۱ پیکسل | ۱٬۰۲۴ × ۶۱۰ پیکسل | ۱٬۴۵۸ × ۸۶۸ پیکسل.
پروندهٔ اصلی (۱٬۴۵۸ × ۸۶۸ پیکسل، اندازهٔ پرونده: ۳۲۳ کیلوبایت، نوع MIME پرونده: image/png)
اطلاعات پرونده
دادههای ساختاریافته
گزینهها
خلاصه
[ویرایش]توضیحJM3 18 2 023502 f001.png |
فارسی: چگونگی تشکیل طراحی سنگ با اشعه ایکس |
تاریخ | |
منبع |
https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0167931715001604 https://www.spiedigitallibrary.org/journals/journal-of-micro-nanopatterning-materials-and-metrology/volume-18/issue-02/023502/Influence-of-secondary-effects-in-the-fabrication-of-submicron-resist/10.1117/1.JMM.18.2.023502.full?SSO=1 |
پدیدآور |
Elsevier B.V. Abrar Faisal, Thomas Beckenbach, Jürgen Mohr, and Pascal Meyer |
اجازهنامه
[ویرایش]این پرونده تحت پروانهٔ Creative Commons Attribution-Share Alike 4.0 International منتشر شده است.
- شما اجازه دارید:
- برای به اشتراک گذاشتن – برای کپی، توزیع و انتقال اثر
- تلفیق کردن – برای انطباق اثر
- تحت شرایط زیر:
- انتساب – شما باید اعتبار مربوطه را به دست آورید، پیوندی به مجوز ارائه دهید و نشان دهید که آیا تغییرات ایجاد شدهاند یا خیر. شما ممکن است این کار را به هر روش منطقی انجام دهید، اما نه به هر شیوهای که پیشنهاد میکند که مجوزدهنده از شما یا استفادهتان حمایت کند.
- انتشار مشابه – اگر این اثر را تلفیق یا تبدیل میکنید، یا بر پایه آن اثری دیگر خلق میکنید، میبایست مشارکتهای خود را تحت مجوز یکسان یا مشابه با ا اصل آن توزیع کنید.
تاریخچهٔ پرونده
روی تاریخ/زمانها کلیک کنید تا نسخهٔ مربوط به آن هنگام را ببینید.
تاریخ/زمان | بندانگشتی | ابعاد | کاربر | توضیح | |
---|---|---|---|---|---|
کنونی | ۲۵ ژانویهٔ ۲۰۲۲، ساعت ۰۸:۱۷ | ۱٬۴۵۸ در ۸۶۸ (۳۲۳ کیلوبایت) | Amirndir (بحث | مشارکتها) | Uploaded a work by Elsevier B.V. Abrar Faisal, Thomas Beckenbach, Jürgen Mohr, and Pascal Meyer from https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0167931715001604 https://www.spiedigitallibrary.org/journals/journal-of-micro-nanopatterning-materials-and-metrology/volume-18/issue-02/023502/Influence-of-secondary-effects-in-the-fabrication-of-submicron-resist/10.1117/1.JMM.18.2.023502.full?SSO=1 with UploadWizard |
نمیتوانید این پرونده را رونویسی کنید.
کاربرد پرونده
این پرونده در هیچ صفحهای به کار نرفته است.
کاربرد سراسری پرونده
ویکیهای دیگر زیر از این پرونده استفاده میکنند:
- کاربرد در fa.wikipedia.org
فراداده
این پرونده حاوی اطلاعات اضافهای است که احتمالاً دوربین دیجیتال یا پویشگری که در ایجاد یا دیجیتالی کردن آن به کار رفته آن را افزوده است. اگر پرونده از وضعیت ابتداییاش تغییر داده شده باشد آنگاه ممکن است شرح و تفصیلات موجود اطلاعات تصویر را تماماً بازتاب ندهد.
تفکیکپذیری افقی | ۳۷٫۷۹ نقطه در سانتیمتر |
---|---|
تفکیکپذیری عمودی | ۳۷٫۷۹ نقطه در سانتیمتر |
تاریخ و زمان تغییر پرونده | ۱۵ مهٔ ۲۰۱۹، ساعت ۰۱:۵۲ |