File:Wafer flats convention v2.svg

De Wikimedia Commons
Salta a la navegació Salta a la cerca

Fitxer original(fitxer SVG, nominalment 150 × 150 píxels, mida del fitxer: 13 Ko)

Llegendes

Llegendes

Afegeix una explicació d'una línia del que representa aquest fitxer

Resum

[modifica]
Descripció

Wafer flats convention, based on Image:Wafer flats convention.PNG

Conventional meaning of flats in semiconductor wafers. Red denotes material that has been removed.

Wafer orientation is the orientation of the crystallographic plane in which the crystal grew. Wafer type indicated the type of doping.
Primary flat - indicates crystallographic planes of high symmetry (usually the {110} face).
Secondary flat - it's position relative to Primary flat or it's absence is indicating the doping type and the orientation of wafer.

  • Absence - p {111}
  • 90° - p {100}
  • 180° - n {100}
  • 45° - n {111}
Wafers under 200mm generally have flats indicating crystallographic planes of high symmetry (usually the {110} face) and, in old-fashined wafers (those below about 100mm diameter), the wafer's orientation and doping type. Modern wafers use a notch to convey this information, in order to waste less material. Orientation is important for wafer cleavage, and can affect other structural and electronic properties as well.
Data
Font

self-made,

 
Aquesta imatge vectorial ha estat creada amb Inkscape .
Autor Twisp
Altres versions Wafer flats convention.PNG

Llicència

[modifica]
Public domain Jo, el titular del copyright d'aquesta obra, l'allibero al domini públic. Això s'aplica a tot el món.
En alguns països això pot no ser legalment possible, en tal cas:
Jo faig concessió a tothom del dret d'usar aquesta obra per a qualsevol propòsit, sense cap condició llevat d'aquelles requerides per la llei.

Historial del fitxer

Cliqueu una data/hora per veure el fitxer tal com era aleshores.

Data/horaMiniaturaDimensionsUsuari/aComentari
actual21:40, 24 set 2013Miniatura per a la versió del 21:40, 24 set 2013150 × 150 (13 Ko)Cepheiden (discussió | contribucions)fixed position of secondary flat Silicon processing for the VLSI era - Vol. 1 - Process technology; S Wolf; RN Tauber - Lattice Press; 1986; ISBN 096167237; p. 23
00:37, 23 des 2008Miniatura per a la versió del 00:37, 23 des 2008150 × 150 (13 Ko)Inductiveload (discussió | contribucions)Added arrow indication <110> direction and enlarged flats so they can be easily seen
21:17, 29 feb 2008Miniatura per a la versió del 21:17, 29 feb 2008150 × 150 (9 Ko)Twisp (discussió | contribucions)
21:13, 29 feb 2008Miniatura per a la versió del 21:13, 29 feb 2008150 × 150 (9 Ko)Twisp (discussió | contribucions)
21:06, 29 feb 2008Miniatura per a la versió del 21:06, 29 feb 2008150 × 150 (8 Ko)Twisp (discussió | contribucions)
20:59, 29 feb 2008Miniatura per a la versió del 20:59, 29 feb 2008150 × 150 (8 Ko)Twisp (discussió | contribucions)
18:09, 29 feb 2008Miniatura per a la versió del 18:09, 29 feb 2008150 × 150 (9 Ko)Twisp (discussió | contribucions){{Information |Description= Wafer flats convention, based on Image:Wafer flats convention.PNG Conventional meaning of ''flats'' in semiconductor wafers. Black denotes material that has been removed. Wafer orientation is

Les 2 pàgines següents utilitzen aquest fitxer:

Ús global del fitxer

Utilització d'aquest fitxer en altres wikis:

Metadades