File:Wet etching tanks at LAAS 0465.jpg
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摘要
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| 描述 |
English: etching tanks used to perform Piranha, Hydrofluoric acid or RCA clean on 4-inch wafer batches at LAAS-CNRS technological facility in Toulouse, France.
Français : Bacs de gravure chimique utilisés pour des nettoyages RCA, à l'acide fluorhydrique ou au mélange piranha sur des lots de wafers de 4 pouces à la centrale de technologie du LAAS-CNRS à Toulouse, France. |
| 日期 | |
| 来源 | 自己的作品 |
| 作者 | Guillaume Paumier (user:guillom) |
| 授权 (二次使用本文件) |
Own work, attribution, share-alike: Multi-license with GFDL and Creative Commons CC-BY-SA-3.0 |
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|---|
Credit information:
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- Credit line on the web (with hyperlink): Guillaume Paumier, CC-BY.
- Printed publications: guillaumepaumier.com, CC-BY.
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| 日期/时间 | 缩略图 | 大小 | 用户 | 备注 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 当前 | 2007年11月12日 (一) 09:27 | | 3,872 × 2,592（3.48 MB） | Guillom（留言 | 贡献） | ==Description== {{Information |Description={{en|etching tanks used to perform Piranha, en:Hydrofluoric acid or en:RCA clean on 6-inch wafer batches at fr:LAAS-CNRS technologica |
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