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最新前 18:402020年9月8日 (火) 18:40‎ BotMultichill トーク投稿記録‎ 3,869バイト +2,998‎ ‎エンティティを変更: Adding structured data: author, copyright, date & source 取り消し

最新前 17:422014年12月9日 (火) 17:42‎ YaCBot トーク投稿記録‎ 細 871バイト +7‎ Bot: Internationalisation. Grouping categories at the bottom. 取り消し

最新前 18:032011年1月5日 (水) 18:03‎ Ensahequ トーク投稿記録‎ 細 864バイト +40‎ added Category:Chemical vapour deposition using HotCat 取り消し

最新前 18:442010年8月20日 (金) 18:44‎ Cepheiden トーク投稿記録‎ 824バイト −16‎ Moving from Category:Semiconductor devices fabrication to Category:Thermal oxidation 取り消し

最新前 23:362010年1月31日 (日) 23:36‎ Rocket000 トーク投稿記録‎ 840バイト +33‎ Copying from Category:Semiconductor devices fabrication to Category:SVG microtechnology 取り消し

最新前 19:082009年12月14日 (月) 19:08‎ Cepheiden トーク投稿記録‎ 807バイト 0‎ uploaded a new version of File:Locos (microtechnology) process recessed.svg: some fixes 取り消し
最新前 14:542009年12月14日 (月) 14:54‎ Cepheiden トーク投稿記録‎ 細 807バイト +13‎ Removed category SVG Microtechnology; Quick-adding category Semiconductor devices fabrication (using HotCat.js) 取り消し

最新前 15:122009年9月7日 (月) 15:12‎ Emijrpbot トーク投稿記録‎ 細 794バイト +13‎ BOT - Changes to allow localization: self-made → {{Own}}; Licensing → {{int:license}}; Summary → {{int:filedesc}}; 取り消し

最新前 20:002009年7月6日 (月) 20:00‎ Emijrpbot トーク投稿記録‎ 細 781バイト 0‎ BOT - Normalize date format to allow localization: 19.01.2008 → 2008-01-19 取り消し

最新前 20:242008年1月19日 (土) 20:24‎ Twisp トーク投稿記録‎ 781バイト +781‎ {{Information |Description= {{en|The image illustrates the LOCOS technology used in microfabrication mostly to create isolating structures. I. Preparation of silicon substrate II. CVD deposition of SiO2, pad/buffer oxide III. CVD deposition of Si3N4, ni

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