File:Photolithography etching process.svg

از Wikimedia Commons
پرش به ناوبری پرش به جستجو

پروندهٔ اصلی (پروندهٔ اس‌وی‌جی، با ابعاد ۵۱۲ × ۲٬۵۶۰ پیکسل، اندازهٔ پرونده: ۸ کیلوبایت)

پردازش این تصویر در .

گزینه‌ها

عنوان

شرحی یک‌خطی از محتوای این فایل اضافه کنید
این پرونده را ترجمه کنید این پروندهٔ اس‌وی‌جی از متن جاسازی‌شده استفاده می‌کند که به‌سادگی می‌توان با این ابزار خودکار آن را به زبانتان ترجمه کرد (اطلاعات بیشتر).

همچنین می‌توانید تصویر را دریافت و با یک ویرایشگر متن به طور دستی آن را ویرایش کنید.

 
W3C-validity not checked.

خلاصه

[ویرایش]
توضیح
English: Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. Note: Not to scale.
منبع اثر شخصی
پدیدآور Cmglee
دیگر نسخه‌ها
  • آلمانی .svg
    آلمانی .svg
  • انگلیسی .svg
    انگلیسی .svg
  • روسی .svg
    روسی .svg
آثار انشقاقی از این پرونده:  Photolithography etching process (DE).svg

اجازه‌نامه

[ویرایش]
من، صاحب حقوق قانونی این اثر، به این وسیله این اثر را تحث اجازه‌نامه‌های ذیل منتشر می‌کنم:
w:fa:کرییتیو کامنز
انتساب انتشار مشابه
این پرونده با اجازه‌نامهٔ کریتیو کامانز Attribution-Share Alike 3.0 سازگار نشده منتشر شده است.
شما اجازه دارید:
  • برای به اشتراک گذاشتن – برای کپی، توزیع و انتقال اثر
  • تلفیق کردن – برای انطباق اثر
تحت شرایط زیر:
  • انتساب – شما باید اعتبار مربوطه را به دست آورید، پیوندی به مجوز ارائه دهید و نشان دهید که آیا تغییرات ایجاد شده‌اند یا خیر. شما ممکن است این کار را به هر روش منطقی انجام دهید، اما نه به هر شیوه‌ای که پیشنهاد می‌کند که مجوزدهنده از شما یا استفاده‌تان حمایت کند.
  • انتشار مشابه – اگر این اثر را تلفیق یا تبدیل می‌کنید، یا بر پایه‌ آن اثری دیگر خلق می‌کنید، می‌‌بایست مشارکت‌های خود را تحت مجوز یکسان یا مشابه با ا اصل آن توزیع کنید.
GNU head اجازهٔ کپی، پخش و/یا تغییر این سند تحت شرایط مجوز مستندات آزاد گنو، نسخهٔ ۱٫۲ یا هر نسخهٔ بعدتری که توسط بنیاد نرم‌افزار آزاد منتشر شده؛ بدون بخش‌های ناوردا (نامتغیر)، متون روی جلد، و متون پشت جلد، اعطا می‌شود. یک کپی از مجوز در بخشی تحت عنوان مجوز مستندات آزاد گنو ضمیمه شده است.
می‌توانید مجوز دلخواه خود را برگزینید.

تاریخچهٔ پرونده

روی تاریخ/زمان‌ها کلیک کنید تا نسخهٔ مربوط به آن هنگام را ببینید.

تاریخ/زمانبندانگشتیابعادکاربرتوضیح
کنونی‏۱۷ آوریل ۲۰۲۲، ساعت ۰۸:۲۷تصویر بندانگشتی از نسخهٔ مورخ ‏۱۷ آوریل ۲۰۲۲، ساعت ۰۸:۲۷۵۱۲ در ۲٬۵۶۰ (۸ کیلوبایت)Djiboun (بحث | مشارکت‌ها)File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for fr.
‏۲۰ ژوئن ۲۰۲۰، ساعت ۱۳:۱۸تصویر بندانگشتی از نسخهٔ مورخ ‏۲۰ ژوئن ۲۰۲۰، ساعت ۱۳:۱۸۵۱۲ در ۲٬۵۶۰ (۵ کیلوبایت)Mega deppa (بحث | مشارکت‌ها)Reverted to version as of 16:52, 9 October 2011 (UTC)
‏۲۰ ژوئن ۲۰۲۰، ساعت ۱۳:۱۶تصویر بندانگشتی از نسخهٔ مورخ ‏۲۰ ژوئن ۲۰۲۰، ساعت ۱۳:۱۶۵۱۲ در ۲٬۵۶۰ (۸ کیلوبایت)Mega deppa (بحث | مشارکت‌ها)File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for ja.
‏۹ اکتبر ۲۰۱۱، ساعت ۱۶:۵۲تصویر بندانگشتی از نسخهٔ مورخ ‏۹ اکتبر ۲۰۱۱، ساعت ۱۶:۵۲۵۱۲ در ۲٬۵۶۰ (۵ کیلوبایت)Cmglee (بحث | مشارکت‌ها)Align text, change enumeration and change colour to match Image:CMOS_fabrication_process.svg.
‏۳۰ سپتامبر ۲۰۱۱، ساعت ۲۲:۰۳تصویر بندانگشتی از نسخهٔ مورخ ‏۳۰ سپتامبر ۲۰۱۱، ساعت ۲۲:۰۳۵۱۲ در ۲٬۵۶۰ (۵ کیلوبایت)Cmglee (بحث | مشارکت‌ها)Merge develop and remove exposed photoresist.
‏۲۹ سپتامبر ۲۰۱۱، ساعت ۲۲:۴۶تصویر بندانگشتی از نسخهٔ مورخ ‏۲۹ سپتامبر ۲۰۱۱، ساعت ۲۲:۴۶۵۱۲ در ۲٬۹۲۶ (۵ کیلوبایت)Cmglee (بحث | مشارکت‌ها)Fix text alignment.
‏۲۹ سپتامبر ۲۰۱۱، ساعت ۲۲:۳۹تصویر بندانگشتی از نسخهٔ مورخ ‏۲۹ سپتامبر ۲۰۱۱، ساعت ۲۲:۳۹۵۱۲ در ۲٬۹۲۶ (۵ کیلوبایت)Cmglee (بحث | مشارکت‌ها)Fix text alignment.
‏۲۹ سپتامبر ۲۰۱۱، ساعت ۲۲:۳۷تصویر بندانگشتی از نسخهٔ مورخ ‏۲۹ سپتامبر ۲۰۱۱، ساعت ۲۲:۳۷۵۱۲ در ۲٬۹۲۶ (۵ کیلوبایت)Cmglee (بحث | مشارکت‌ها)Fix text alignment.
‏۲۹ سپتامبر ۲۰۱۱، ساعت ۲۲:۳۰تصویر بندانگشتی از نسخهٔ مورخ ‏۲۹ سپتامبر ۲۰۱۱، ساعت ۲۲:۳۰۵۱۲ در ۳٬۴۱۳ (۵ کیلوبایت)Cmglee (بحث | مشارکت‌ها){{Information |Description ={{en|1=Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. }} |Source ={{own}} |Author =Cmglee |Date

نمی‌توانید این پرونده را رونویسی کنید.

کاربرد سراسری پرونده

ویکی‌های دیگر زیر از این پرونده استفاده می‌کنند:

فراداده

این پرونده حاوی اطلاعات اضافه‌ای است که احتمالاً دوربین دیجیتال یا پویشگری که در ایجاد یا دیجیتالی کردن آن به کار رفته آن را افزوده است. اگر پرونده از وضعیت ابتدایی‌اش تغییر داده شده باشد آنگاه ممکن است شرح و تفصیلات موجود اطلاعات تصویر را تماماً بازتاب ندهد.

برگرفته از «https://commons.wikimedia.org/w/index.php?title=File:Photolithography_etching_process.svg&oldid=649426854»